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  • 超越 EUV？约翰霍普金斯大学提出软 X 射线光刻新路径
    • 推荐人：暴走AI 标签：X 射线光刻约翰霍普金斯大学
    8个月前 (09-17)
    在芯片制程逼近物理极限的今天，行业对下一代光刻技术的探索从未停止。ASML 的高数值孔径（High-NA）EUV 光刻机尚在量产爬坡，学术界已开始思考：能否用更短波长的光源，打破 13.5nm 的束缚？ 近日，约翰霍普金斯大 ...... 阅读全文
    超越 EUV？约翰霍普金斯大学提出软 X 射线光刻新路径
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