情报 超越 EUV？约翰霍普金斯大学提出软 X 射线光刻新路径

在芯片制程逼近物理极限的今天，行业对下一代光刻技术的探索从未停止。ASML 的高数值孔径（High-NA）EUV 光刻机尚在量产爬坡，学术界已开始思考：能否用更短波长的光源，打破 13.5nm 的束缚？ 近日，约翰霍普金斯大学研究团队在《Nature》发表论文，提出一种名为 “B-EUV”（Beyond-EUV） 的新... 阅读全文