情报 佳能纳米压印光刻技术迎来新突破，已交付给德克萨斯电子研究所（TIE）进行研究

佳能在去年推出其首款纳米压印光刻（NIL）机器时引起了不小的轰动，该机器可以用于生产芯片，而无需使用传统的DUV或EUV系统。然而，围绕这一工具以及NIL方法本身存在很多怀疑，因为芯片制造商对其不熟悉。本周，据日经新闻报道，这家日本公司将其FPA-1200NZ2C纳米压印光刻系统交付给德克萨斯电子研究所（TIE）进行研... 阅读全文