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佳能纳米压印光刻技术迎来新突破,已交付给德克萨斯电子研究所(TIE)进行研究
推荐人:暴走AI
标签:
佳能
德克萨斯电子研究所
10个月前 (09-28)
佳能在去年推出其首款纳米压印光刻(NIL)机器时引起了不小的轰动,该机器可以用于生产芯片,而无需使用传统的DUV或EUV系统。然而,围绕这一工具以及NIL方法本身存在很多怀疑,因为芯片制造商对其不熟悉。本周,据日经新闻报道,这家日本公司将其FPA-1200NZ2C纳米压印光刻系统交付给德克萨斯电子研究所(TIE)进行研...
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佳能纳米压印光刻技术迎来新突破,已交付给德克萨斯电子研究所(TIE)进行研究
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